| 01-09-2023 |
Applicación de un plasma reactivo para la fabricación de micro-dispositivos: celdas solares y transistores
Este proyecto de investigación de pregrado se centra en la aplicación de la tecnología de plasma de grabado de iones reactivos (RIE), una forma de plasma altamente especializada y controlada, para la fabricación de microdispositivos, con un enfoque principal en células solares y transistores. RIE es conocido por su precisión en la eliminación y modificación de materiales a micro y nanoescala, lo que lo convierte en una herramienta crucial en la fabricación avanzada de semiconductores
Prerequisitos:
FIS1533
Tiene un método de evaluación Nota 1-7, con 10 créditos y tiene 1/2 vacantes disponibles |
Mentor(es): Ver en la plataforma |
| 01-09-2023 |
Application of a reactive plasma for the manufacture of micro-devices: solar cells and transistors
This undergraduate research project is centered around the application of Reactive Ion Etching (RIE) plasma technology, a highly specialized and controlled form of plasma, for the fabrication of micro-devices, with a primary focus on solar cells and transistors. RIE is known for its precision in material removal and modification at the micro and nanoscale, making it a crucial tool in advanced semiconductor manufacturing.
Prerequisites:
FIS1533
Evaluation method: Nota 1-7, with 1/2 available vacants |
Mentor(s): Open in the plataform |